令和４年９月２０日（火）、９月２１日（水）本校におきましてGEAR5.0 エネルギー・環境分野「若手研究会」を開催いたしました。

台風１４号の影響もあり、佐世保への移動ができずに一部高専とはオンラインとなりましたが、ＧＥＡＲ5.0関係者をはじめ、本校教職員のご尽力に心よりお礼申し上げます。

高専はこれまで多くの技術者を輩出してきましたが、今後のカーボンニュートラル社会においては、専門技術を探求すると同時に、多種多様な異分野を横断する連携能力も必要となります。
本イベントでは、各高専で実施済・実施予定の研究について発表聴講し、討論を行いました。更に、長崎県として先端的に再エネ水素実証プラントを設置している㈱イワテック様を訪問することで、社会実装の実例を見学し、水素技術について身近に感じることができました。加えて、「ELSI」について学習しました。（新規に開発された技術が、社会で広く使われるようになるまでにはさまざまな課題を解決する必要があります。技術的な課題以外にも法律や倫理、あるいはその技術が社会に受け入れられるかなども検討しなくてはなりません。そうした「倫理的・法的・社会的な課題」をまとめて「ELSI」と呼びます。）
本校学生にとりましても、他高専の学生の研究を目の当たりにできて、今後の研究へのモチベーションが一層高まったように感じられました。

当日午後７時には、取材に来ていたテレビ佐世保「スポットインサセボ」のコーナーに「若手研究会」が取り上げられ、コンパクトながら丁寧な番組作りとなっておりました。定時ごとに翌日１５時まで、繰り返し放映されましたので、市民への「水素技術」に関するよい宣伝の機会となりました。
 

GEAR5.0 エネルギー・環境分野　ユニットリーダー　佐世保高専機械工学科准教授　西口　廣志

若手研究会	(株)イワテック様実証プラント見学
ポスターセッション	オンラインポスターセッション
オンラインポスターセッション	班別ディスカッション
班別ディスカッション総括発表	先生方の研究発表

電気電子工学科の工学的手法を用いたジャンボタニシ防除法の研究開発に関する取組みが、日本農業新聞（２０２２年９月１４日付）で掲載されました。
 

内　容　： ジャンボタニシ集まりました　マイナス電極で誘い密度把握　効率防除へ長崎の高専開発

掲載日　： ２０２２年９月１４日（水）

掲載媒体： 日本農業新聞

参考URL（日本農業新聞web）：https://www.agrinews.co.jp/farming/index/103027

本研究の一部は，科学技術振興機構（JST）研究成果最適展開支援プログラム「A-STEP 産学共同（育成型）」および農業・食品産業技術総合研究機構（NARO）生研支援センター「イノベーション創出強化研究推進事業」の支援を受けて行われました（特許出願済）。

令和４年９月１日（木）～９月２日（金）の２日に渡って、本科４年生が新設科目「半導体デバイス工学」の実習として九州工業大学マイクロ化総合技術センターを訪れ、半導体製造プロセスの一部を体験してきました。

実際にセンターを訪れたのは上記科目の履修学生のうち代表７名で、他の履修学生は自宅、もしくは佐世保高専大講義室でリモートにて製造プロセスの様子を観察しました。
実際に訪れた学生は慣れないクリーンルームに専用のクリーンスーツを着て入り、実際の半導体製造プロセス、またそれに利用される装置を目の当たりにして驚いていました。
リモート中継も作業者の手元を非常によく映し、できる限りの臨場感を演出しました。

今回の実習を通して、学生は半導体製造にどのような工程があり、どれだけの技術を費やして日常で使われる半導体が作られているかを実感できました。

フォトリソグラフィーのための薬液塗布を体験する様子	フォトリソグラフィー後のパターンを顕微鏡で観察する様子
試料観察をしながら説明を受ける様子	出来上がった試料を持って集合写真

 
■概要

Compass5.0半導体分野の事業として「半導体人材育成に関わる教員研修」を行いました。本研修は、今後展開する半導体教育に関する実習・教材等を協働で開発・展開いただける協力教員の半導体製造プロセスへの理解を深め、異分野あるいは他高専の教員との交流を行って事業を発展させることを目的としています。
研修は九州工業大学マイクロ化総合技術センター（https://www.cms.kyutech.ac.jp/）が提供するセミナー「半導体デバイス製造プロセス（前工程）」を受講しました。本セミナーは専門分野外の方でも半導体製造プロセスを体系的に学ぶことできる内容になっており、企業の新人研修にも採用されています。

 
■会場・主なスケジュール

 
■８月２３日（火）１日目

全国から集まった参加者と挨拶後、研修スタート。研修内容は九工大マイクロ化総合技術センターで企業向けの研修としても活用されている「製造中核人材育成セミナー　デバイスプロフェッショナル　半導体デバイス製造プロセス（前工程）」に参加しました。講義とクリーンルームでの実習が組み合わされたプログラムで、学びながら実際の工程を確認することができ、実践的で理解を深めやすい内容でした。ほとんどの方がクリーンルーム初体験であり、クリーンスーツへの着替えやエアシャワーで笑顔があふれていました。クリーンルームでの説明が始まると皆さん真剣な眼差しで実習に臨んでいらっしゃいました。１日目終了後、Compass半導体分野の概要と状況を紹介しました。

全国高専から集まった参加者と名刺交換	中村先生と馬場先生のご挨拶及びオリエンテーション

講義を受ける参加者	初日午前中から早速クリーンルームへ

作成途中のウエハ	講師の説明を受ける参加者	１日目終了後、 Compass半導体分野の概要紹介

■８月２４日（水）２日目
２日目は安藤先生のプロセス講義や中村先生の設計講義を受講。講義の間で実習も行われました。９/１の佐世保高専学生の研修に向けて、クリーンルームと講義室をオンラインで接続し、オンライン実習の試行を行いました。九工大の先生方がよりよいオンライン実習となるように、様々な工夫やご配慮をしてくださっていました。午後はクリーンルームのユーティリティ見学として、クリーンルームの地下の装置類やガスの管理装置、大型の超純水製造装置を見学しました。半導体のプロセスでは不純物の無いきれいなガスや水が大量に必要であるということを実感できました。

安藤先生のプロセス講義	中村先生の設計講義	講義室にてオンライン実習の試行

スクリーンに表示された実習の様子	クリーンルームユーティリティ見学（クリーンルームの地下）

クリーンルームユーティリティ見学（ガス管理室、純水製造装置）

 
■８月２５日（木）３日目
３日目は馬場先生のプロセス講義からスタートしました。この日は最も実習の時間が長い日であり、一番疲れる日であると聞いていましたが、皆さん休まれることなくクリーンルームへ入室されていました。RCA洗浄におけるフッ酸の危険性や人体への影響について説明を聞き、前日見学した超純水製造装置で作った水を大量に使った洗浄操作を見学しました。午後はCMOS周辺装置の実習として、チップのSEM観察やウエハ破断実習を行いました。

馬場先生のプロセス講義	RCA洗浄の危険性と注意点の説明	洗浄後のウエハ

拡散炉での熱処理		熱処理後のウエハ

CMOSチップのSEM観察	FIB-SEMの説明	ウエハ破断実習

 
■８月２６日（金）４日目
最終日である４日目は、フォトリソやレジスト除去を行い、ウエハ上のパターンを顕微鏡で観察しました。拡大した像が表示されると、ミクロな空間に精密で微細な加工ができており、うまく作れたことに皆さん感動していらっしゃいました。午後は作成したMOSの電気的特性測定を行い、トランジスタとして機能していることを確認しました。最後に修了証、写真やデータ入りCD、MOSチップを受け取り、写真撮影をして研修プログラムは終了となりました。研修後に参加者による感想、意見交換を行いましたが、皆さん「大変満足できた」、「実りのある研修であった」とのコメントでした。Compass半導体で連携・協力していくことを確認して解散しました。

ホットプレートでウエハをベイク	フォトリソグラフィ後のパターンを顕微鏡で観察する様子

ウエハ完成後に集合写真	完成したウエハのダイシング	ワイヤーボンディング

ワイヤーボンディング実習	作成したMOSの電気的特性測定

修了証授与（MOSチップ、写真やデータ入りCD、修了証受領）		参加者およびスタッフで写真撮影

令和４年８月２０日（土）から９月４日（日）にかけて、四国地区において第５７回（令和４年度）全国高等専門学校体育大会が開催されました。

本校からは陸上部・水泳部・卓球部・剣道部・ソフトテニス部・野球部が６競技に参加し、各クラブの選手たちは日頃の鍛錬の成果を発揮し、熱い戦いを見せてくれました。
特に剣道部は男子団体の部で準優勝と素晴らしい成績を収めました。全ての部活動の今後ますますの活躍を期待しています。

大会期間中は多くの保護者及び卒業生のみなさまに応援いただきましてありがとうございました。この場をお借りし、お礼申し上げます。

男子団体の部で準優勝の剣道部